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Dichlorosilane - 二氯二氢硅 - ( SiH2CL2, DCS )
二氯硅烷_WECHEM_SH_MSDS.pdf 资料下载二氯二氢硅 是剧毒，无色，易燃，液化性◇气体，具有强烈◣的刺激性气味。与水接触水解形成盐酸〓。在其自身蒸汽压力下作为液化性气▅体运输。
| 规格 | ||
| 纯度，% | 99 | 99.9 |
| 典型的电阻率 | ≥ 200 ohm-cm | ≥ 400 ohm-cm |
| 一氯→甲硅烷 | ≤ 0.2% | ≤ 100 pm |
| 三氯硅烷 | ≤ 0.5% | ≤ 200 pm |
| 四氯化硅 | ≤ 0.1% | ≤ 100 pm |
| 其他Ψ氯硅烷 | ≤ 1 wt % | ≤ 500 pm |
| 运输 | ||
| DOT 运输名称 | 毒物吸入危害↙ | |
| DOT 分类 | 2.3 | |
| DOT 标签 | 毒气，不可燃 | |
| UN NO. | UN 2189 | |
| CAS No. | 4109-96-0 | |
| CGA/DISS/JIS | 678/636/W22-14L | |
| 运输状态 | 液化性气体 | |
| 技术信息 | ||
| 钢瓶状况 @ 21.1°C? | 液体 | |
| 在空气中的燃烧极限 | 4.1-98.8% | |
| 自然温度 (°C ) | 100 | |
| 分子量 (g/mol) | 101.01 | |
| 比重 ( 空气 =1) | 3.47 | |
| 临界温度 ( °C ) | 175.85 | |
| 临界温度 ( psig ) | 678.2 | |
| 应用 | ||
| 1. 是在↓化学气相沉积（CVD ) 工程中和氨（ NH3 ) 一起作为硅前驱卐物 （ Silicon Precursor? ) 的原料。 2. 用于硅结晶体 （ Silicon Epitaxial ) 的沉积工艺中。 | ||